(2021年03月19日付のニュース&トピックスの続き)
台湾経済知的財産局（台湾特許庁）は、日本特許庁との「意匠出願の優先権書類の電子的交換」について2022年01月01日より実施すると発表しました。

出典: 台湾特許庁

米国特許庁は、DOCXフォーマット以外の出願に対する追加公費制度の導入について2022年01月01日の予定でしたが、2023年01月01日に延期すると発表しました。

出典: USPTO

韓国では特許等の審判段階での審理を迅速に解決できるようにするための特許法、商標法、デザイン保護法(意匠法)改正案が2021年07月23日に国会を通過しました。

改正法では、特許等の審判段階で当事者間の合意を経て審判を終結させる調停制度や、審判の初期段階で当事者の主張や証拠の提出を促す適時提出主義制度が設けられます。(2021年11月18日施行)

さらに改正法では、特許審判院に最先端技術の専門家を審判事件の支援人員として採用する制度も設けられます。(2022年02月18日施行)

出典: LEE INTERNATIONAL IP & LAW GROUP

韓国で改正デザイン保護法(改正意匠法)が2021年10月21日に施行されました。
①改正デザイン保護法により、画像デザインが広い範囲で保護されることになりました。従来は画像が表示された物品デザインのみが保護の対象でした。しかし、改正デザイン保護法施行後はウェブサイトの画面、外壁や路面、人体等に表現されるイメージ、バーチャルリアリティー（ＶＲ）、拡張現実（ＡＲ）映像等もデザインとして保護を受けることができるようになりました。
②改正デザイン保護法により、組物に関する部分デザインも保護の対象となりました。

出典: HA & HA

韓国特許審判院は、専門的な知識と経験を備えた民間の技術専門家が特許審判に参加する専門審理委員制度を導入し、2021年10月21日より施行しています。

該当するのは、技術変化が速い、もしくは現場知識が必要となる、人工知能、自律走行、二次・燃料電池、無線通信（5G/6G）、動画・オーディオ圧縮、フィンテック、半導体（露光、エッチング、蒸着技術）、ロボット制御、地盤の安定化、変速機、バイオヘルスの合計11の技術分野であり、現在約130名の専門審理委員候補者が確保されています。

審判長が、審判中に専門審理委員の参加が必要であると判断した場合、両当事者の意見を聞いた上で候補者から専門審理委員を指定することができます。また、当事者は意見書を通じて審判長に専門審理委員の参加を提案することもできます。

当該制度の導入により中立的な意見が審理に活用され、審判官の迅速かつ正確な判断に寄与することが期待されます。

出典: HA & HA

カナダ知的財産局（CIPO）は2021年05月03日付で商標早期審査の運用を開始すると発表しました。以下の基準をひとつ以上満たした場合、早期審査を申請することができます。早期審査申請に公費はかかりません
●商標出願にかかる商標についてカナダ国内で訴訟が予定されている又は進行中である場合
●商標出願にかかる商標について税関で模倣品対応が行われている場合
●インターネット市場で出願人の知的所有権が不当な扱いを受けないよう保護するために商標登録が必要な場合
●外国の知的財産局の求めに応じて所定の期限内に優先権を維持するため出願人の商標の登録が必要な場合（外国知的財産局の要請を早期審査申請書に添付すること）

出典: カナダ知的財産局

中国では同一発明について同日に発明特許出願と実用新案登録出願を行う二重出願制度が採用されております。多くの出願人は早期保護を確保するためにこの二重出願制度を戦略的に取り入れております。
今般、最高人民法院知的財産裁判所は「発明特許出願は特許要件を満たさず特許不成立が確定したため、対応する実用新案権の権利行使を認めない」との決定を下しました。
詳細(中国語版）につきましては、リンクをご参照ください。

≫http://www.court.gov.cn/fabu-xiangqing-288131.html≪

出典: 中国最高人民法院

中国の国家知識産権局は、2021年10月12日付で下記のように、商標登録証発行の方式変更を公表しました。

(一)
2022年01月01日より、用紙を使った登録証の発行が廃止され、商標登録証受取通知書を以て当局のシステム
から登録証の電子コピーを取得することになります。
(二)
紙面により出願され、2021年10月15日～12月31日までの過渡期間中に登録証が発行される商標に関しては、
登録証の電子コピーを取得することも可能であり、従来の用紙を使った登録証も並行して発行されます。

出典: 中国 国家知識産権局

ブラジル産業財産庁に出願された医薬品関連の特許出願について同国国家衛生監督局(ANVISA)による事前の同意を必要とする義務規定(産業財産法第229C条)は、新しい法令14.195号により廃止されました。

出典: Simoes IP

2021年09月13日より、ベネズエラの特許及び商標に係る手続きの公費が全面的に値上げされました。

出典: HOET ＆ Partners