メキシコ特許庁は2026年03月11日、特許、実用新案出願の審査に関する規則の改正を発表しました。改正規則は翌03月12日に施行されましたが、この日前に出願された出願には適用されません。

改正により、特許出願のオフィシャルアクションの回数は最大4回から2回へ削減されました。

また、改正により審査官とのオンライン面談を受けることができるようになりました。

出典: Kasznar Leonardos

韓国知的財産処(KIPO)は、2026年03月11日付で補正案レビュー制度及び再審査面談制度を改善しました。

これにより、補正案レビュー及び再審査面談を最大2回まで利用可能となりました。

また、面談日は面談申請日から1週間後～補正書提出期限満了日(再審査面談の場合は再審査請求期限の満了日)までの間の希望日を指定可能となりました。

出典: KOREANA

ベトナムの知的財産法を改正する法律第131/2025/QH15号による、特許規定の主な変更点をご案内します(2026年02月10日付「意匠規定の変更」記事の続き)。

1.特許出願処理の迅速化
(1)特許出願の早期公開時期は請求から1ヶ月に短縮(現行2ヶ月)。
(2)異議申立期間は出願公開日から6ヵ月(早期審査対象の出願は3ヶ月)に短縮(現行9ヶ月)。
(3)実体審査の請求期限は優先日から36ヶ月に短縮(現行42ヶ月)。
(4)実体審査の完了に必要な法定期間は12ヶ月に短縮(現行18ヶ月)。
(5)保護証書の付与、満了、無効、変更に関する決定は発行日から30日以内に工業所有権官報に掲載される(現行60日以内)。
2.早期実体審査制度の導入
出願人は2026年04月01日以降早期審査を請求することができ、審査結果は3ヶ月以内に出るものとする。
3.特許侵害による物理的、精神的損害に対する賠償額上限の大幅な引き上げ
4.外国出願を予定する発明に対する国家安全保障の審査の対象範囲を「国家機密リスト」に該当する発明に限定
5.保護証書に記載される権利者の明確化

出典: Ageless IP Attorneys & Consultants

国家産業財産権庁(INPI)は商標登録手続及び登録審査基準の大幅な変更を発表し、2026年03月01日より施行されています。
新規出願審査は、識別性欠如、同一商標の先行存在、公序良俗に反する標章に限定されます。実体審査と方式審査は審査の最初の過程で並行して行われます。
また商品・サービスの性質、品質、原産地、その他特徴について誤解をまねく可能性がある商標についての審査は廃止されました。

出典: OMC Abogados&Consultores

(2025年07月22日付パットワールドVol.233の続報)

シンガポール知的財産権庁(IPOS)は、特許出願の加速審査プログラムを見直すため、当該加速審査の申請の受付を2026年01月04日より当分の間停止することを公表しました。
なお、2026年01月04日より前に申請を受理され当該プログラムの適格要件を満たした申請については、審査が加速されます。

出典: IPOS

2025年12月10日にベトナムの国会は知的財産法を改正する法律第131/2025/QH15号を可決しました。この法律は2026年04月01日に正式に発効します。
意匠の規定について特に大きな注目を集めている変更点は次のとおりです。

1.意匠保護の対象範囲の拡大
部分的な意匠、非物理的な形態(即ちサイバー空間に存在する仮想的な製品)の意匠も保護対象となる。
2.新規性に関する例外規定の適用範囲の拡大
意匠が出願権者または当該者から情報を得た者によって何らかの形で公に開示された場合にも適用される。
3.出願から公開までの期間の短縮
出願が方式上有効とみなされた日から1ヶ月以内(現行は2ヶ月以内)に公開されるものとする。
4.意匠出願の審査手続きの簡素化
(1)出願が方式上有効とみなされた受理決定の廃止
(2)実体審査の開始期間の短縮(公開日から起算し現行の7ヶ月以内から5ヶ月以内に短縮)
5.意匠権の保護証書の無効理由の補足
創作者が真の創作者ではない場合も意匠権が無効とされる。
6.異議申立期間の短縮(公告日から起算し現行の4ヶ月から3ヶ月に短縮)

出典: Ageless IP Attorneys & Consultants

(2024年02月29日付 ニュース&トピックスの続報)

スーダンの商標局は2024年02月に首都・ハルツームからポートスーダンに一時移転されていましたが、この度、ハルツームに戻り業務再開されました。現在のプラクティスでは手続のタイムライン・期限について柔軟に対応しつつ、出願・既登録に関する手続を受け付けています。商標局閉鎖の影響があった期限については、管理上まだ延長された状態であり、ハルツームの業務が予定通りに通常化されたら更なる説明があると思われます。

出典: Saba Intellectual Property

2026年01月14日、ネパール産業局(DOI)は知財記録の再構築を求める指令を発令しました。これは2025年09月に同局関連施設で発生した放火と破壊行為で、物理的なファイルが破壊された事件を受けての措置です。
知的財産権の継続的保護の確保のため、2025年09月以前に出願された特許出願及び意匠出願の登録手続または更新手続を保留している出願人に対し、失われた記録を補う完全な複製ファイルを通知から90日以内(2026年04月12日)までに提出するよう求めています。

出典: JAH Intellectual Property

2026年04月01日より、英国特許庁は特許、商標、意匠に関するすべての公費を25%引上げる計画であると発表しました。
主な引上げ例(いずれもポンド)
特許：オンライン出願60→75調査150→200
商標：オンライン出願170→205更新200→245
意匠：オンライン出願50→60(1意匠)最大10意匠70→85など。

出典: cleveland scott york

南アフリカは、2026年01月01日よりニース国際分類の第13版(2026版)を採用しました。改訂された分類は同日以降に提出される全ての商標出願に適用されます。南アフリカを指定する国際出願を含む新規出願を準備する際に、改訂されたクラスヘディングと適用範囲を確認することをお勧めします。
第13版において、第1, 3, 5, 8, 9, 10, 26, 29, 45類を含むいくつかの区分が改訂され、化学薬品、化粧品、医薬品、工具、ソフトウェア及び電子機器、医療機器、繊維及び服飾雑貨、食品、法律及び個人サービス等の分野に影響を与えますので、係る新規出願が改訂された分類を正確に反映するよう出願の戦略を見直す必要があるかもしれません。

出典: Bergenthuin Attorneys Inc.