ミャンマー:特許法の施行
(2019年03月19日付のニュース&トピックスの続き)
2024年06月01日にミャンマー国家行政評議会は、特許法(2019年法)が2024年05月31日より施行されたことを発表しました。
但し、特許出願の受付開始時期については未だ発表していません。
出典: Drew & Napier
(2019年03月19日付のニュース&トピックスの続き)
2024年06月01日にミャンマー国家行政評議会は、特許法(2019年法)が2024年05月31日より施行されたことを発表しました。
但し、特許出願の受付開始時期については未だ発表していません。
出典: Drew & Napier
2024年05月27日付けの中国政府のネットニュースによると、国家知識産権局は、「知的財産権保護システム構築プロジェクト実施方案」を策定し、知的財産権保護政策を含む7つの面で集中的に施策を展開することを提案しました。
審査能力に優れた権利付与システムの構築を目指し、具体的な目標として、2025年までに特許審査期間を15ヵ月に短縮し、一般的な商標登録期間を7ヵ月に安定させることが掲げられました。
出典: 中国政府網
香港知的財産局は、2024年06月28日以降、電子登録証の発行を開始することを発表しました。
なお、紙媒体の発行を請求することも可能ですが、登録査定通知の発行日から所定の期間内(商標は6週間以内、特許及び意匠は2週間以内)に申請しなければなりません。
出典: 香港知的財産局
インドにおいて特許の国際出願の国内移行期間と審査請求期間が請求により6ヶ月延長できるようになりました。
インド商工省は2024年03月15日に改正特許規則を発表しましたが、上記期間が実際に延長されるのかどうかが不明確でした。しかし、最近インド商工省でアップデートされたe-ポータルにより、上記期間が請求により延長できることが明らかになりました。
出典: Chada & Chada
中国知的財産局の2024年05月16日付第581号公告により、2024年06月01日以降発行する登録証(発明、実用新案、意匠)の様式が表面、裏面の2ページから、表面のみの1ページに変更されます。
主な変更点は、今まで裏面にあった出願時の「出願人名」と「発明者氏名」がより目立つよう表面に記載されることとなります。
出典: 中国特許庁
中国知的財産局の2024年05月16日付第581号公告により、2024年06月01日以降発行する登録証(発明、実用新案、意匠)の様式が表面、裏面の2ページから、表面のみの1ページに変更されます。
主な変更点は、今まで裏面にあった出願時の「出願人名」と「発明者氏名」がより目立つよう表面に記載されることとなります。
出典: 中国特許庁
韓国大法院で、パラメータを発明の構成要件として含む物の生産方法の特許を無効とする判例がありました。
無効とされたのは「多結晶シリコンの製造方法」の特許です。この特許の請求項1に記載されている工程のパラメータの一部の測定方法が明細書には記載されていなかったため、特許請求の範囲の実施可能要件と明確性要件を欠く、とした特許審判院、特許法院の判断を大法院は支持しました。
出典: First law
中国知識産権局は2024年01月20日に「書誌的事項一括変更業務処理に関する通知」を出しました。
複数の特許出願又は特許権について書誌的事項の一括変更ができるようになりました(実用新案、意匠についても同様です)。
主な内容は
1.一括変更件数上限はない。
2.変更事項によっては公費発生は必要。
3.結果公告は1回のみ。
これにより関連手続きの効率向上が期待できます。
出典: 上海専利商標事務所
中国知識産権局は2024年01月20日に「書誌的事項一括変更業務処理に関する通知」を出しました。
複数の特許出願又は特許権について書誌的事項の一括変更ができるようになりました(実用新案、意匠についても同様です)。
主な内容は
1.一括変更件数上限はない。
2.変更事項によっては公費発生は必要。
3.結果公告は1回のみ。
これにより関連手続きの効率向上が期待できます。
出典: 上海専利商標事務所
ブラジル特許庁は、特許出願のアピール(審判)段階でのクレーム補正に関する改正規則を2024年02月27日に発表しました。
改正規則の概略は下記の通りです。
A.補正は拒絶理由解消を目的としたものに限る。
B.審査段階で出願人が放棄したsubject matterを再びクレームに記載することはできない。
C.明細書のみに記載され、クレームには記載されていない事項をクレームに記載することは認められない。
D.出願の本質を変える補正は認められない。(審査段階で議論された場合を除く)
出典: UNGRIA