ギリシャ：対特許庁手続きの電子化
2018年05月02日以降、対ギリシャ特許庁の手続き(特許出願、EP国内段階移行、意匠出願など)は、すべて電子化されることが発表されました。
出典: Dr. Helen G. Papaconstantinou & Partners Law Firm
2018年05月02日以降、対ギリシャ特許庁の手続き(特許出願、EP国内段階移行、意匠出願など)は、すべて電子化されることが発表されました。
出典: Dr. Helen G. Papaconstantinou & Partners Law Firm
韓国特許庁は、2017年9月施行のデザイン保護法の改正に伴い、審査基準を改定しました。
主な変更点は以下の通りです。
①物理的に分離されている2以上のデザインにも、特定の条件下で一の部分デザインとして認めるという、判断基準の緩和
②画像デザインには一部を除き、視認性を求める条項の新設
③新規性喪失の例外の適用を受けるための運用変更
④AIやロボットに直接関連するデザインに対し優先審査を申請可能とする改正
出典: AJU Kim Chang & Lee
