中国:知的財産権新規則正式に実施
2023年07月01日より、いくつかの知的財産権に関する新規則が正式に実施されました。
主な新規則は次のとおりです。
・PCT申請国際段階費用の人民元標準の採用
・マカオ特区出願人の内地における特許優先審査パイロットプロジェクトの開始
・中国とロシアの特許審査ハイウェイ(PPH)の無期限延長
・商業秘密保護管理規範の施行
・商品取引市場知的財産権保護規範の施行
出典: FOUNDIN IP記事
2023年07月01日より、いくつかの知的財産権に関する新規則が正式に実施されました。
主な新規則は次のとおりです。
・PCT申請国際段階費用の人民元標準の採用
・マカオ特区出願人の内地における特許優先審査パイロットプロジェクトの開始
・中国とロシアの特許審査ハイウェイ(PPH)の無期限延長
・商業秘密保護管理規範の施行
・商品取引市場知的財産権保護規範の施行
出典: FOUNDIN IP記事
ジンバブエ政府は「証書・企業・知的財産」の三つの部門を統合し、担当する統一的な最高登録機関の設立を、2023年06月06日付で承認しました。
新たな機関新設に伴い、知的財産関連の法律(特許法・意匠法・著作権法・商標法等)が改正されることとなりますが、新たな機関が設立または業務開始されるまで、行政の効率化が実現するかは不透明です。
出典: Adams & Adams
国家市場監督管理総局は、2015年制定の「知的財産権の濫用による競争の排除・制限の行為の禁止に関する規定」を改正し、2023年08月01日より施行することを公表しました。
改正要点は次のとおりです。
1.独占協定の締結、支配的市場地位の濫用、競争を排除・制限する可能性のある事業者の集中などの独占行為の規定内容の拡大
2.知的財産権の行使による独占行為の認定規則の健全化
3.知的財産権分野の特殊な独占行為(例えば、パテントプールによる支配的市場地位濫用行為、標準必須特許のホールドアップ)の規制の強化
出典: 中国国家市場監督管理総局
国家市場監督管理総局は、2015年制定の「知的財産権の濫用による競争の排除・制限の行為の禁止に関する規定」を改正し、2023年08月01日より施行することを公表しました。
改正要点は次のとおりです。
1.独占協定の締結、支配的市場地位の濫用、競争を排除・制限する可能性のある事業者の集中などの独占行為の規定内容の拡大
2.知的財産権の行使による独占行為の認定規則の健全化
3.知的財産権分野の特殊な独占行為(例えば、パテントプールによる支配的市場地位濫用行為、標準必須特許のホールドアップ)の規制の強化
出典: 中国国家市場監督管理総局
(2023年07月04日付のニュース&トピックスの続き)
2023年08月01日施行予定の特許料などについて適用を受ける対象は次のとおりです。
①審査請求料(約16%引上げ):韓国出願日(又はPCT国際出願日)が2023年08月01日以降の出願
但し、2023年07月31日までに出願された/される韓国出願(又はPCT国際出願)の分割出願に適用されません。
②特許設定料(10%引下げ):2023年08月01日以降に特許決定書が発送された出願
年次登録料(10%引下げ):2023年08月01日以降に納付される特許
③分割出願に対する累進制の分割出願料(新たな導入):2023年08月01日以降に分割出願される特許出願
出典: 特許法人KOREANA
ラオス科学技術省知的財産局(DIP:Department of Intellectual Property, Ministry of Science and Technology)は、2023年06月26日付の通知第0973/MOIC-DIPを発行し、同局に要求されない限り、同通知日以降、委任状、発明者地位証明書、譲渡証書、実施許諾、名称/住所の変更の宣言書などの書類の公証は不要にすることを公表しました。
出典: DAITIN & ASSOCIATES CO., LTD.
ラオス科学技術省知的財産局(DIP:Department of Intellectual Property, Ministry of Science and Technology)は、2023年06月26日付の通知第0973/MOIC-DIPを発行し、同局に要求されない限り、同通知日以降、委任状、発明者地位証明書、譲渡証書、実施許諾、名称/住所の変更の宣言書などの書類の公証は不要にすることを公表しました。
出典: DAITIN & ASSOCIATES CO., LTD.
韓国特許庁は半導体審査推進団を設立し、2023年04月11日に運営を開始しました。
これは半導体関連の審査官を集中させることで審査を加速し、質を向上させることを目的としたものです。
また、韓国特許庁では2022年11月01日から2023年10月31日までの期間、半導体関連出願に対する優先審査の申請を受け付けています。
出典: FIRST LAW P.C.
2023年08月01日に改正施行の改正令案により特許料等について改訂されます。
例えば、特許設定と年次登録料は10%引き下げられる一方、基本審査請求料及び請求項1項当たりの加算額は約16%引き上げられることとになります。
また、分割出願料について分割出願の回数(2回目~5回目)に応じた累進制が導入されることにより、1回目の分割出願には新規出願料に相当する金額を、2回目、3回目、4回目、5回目の分割出願にはそれぞれ同新規出願料の2倍、3倍、4倍、5倍の分割出願料を徴収することになります。
出典: FIRST LAW P.C.
(2023年03月28日付のニュース&トピックスの続き)
米国特許商標庁(USPTO)は、DOCXフォーマット以外の出願に対する追加公費の導入に関し、2023年06月30日に運用開始の予定を、2024年01月17日まで延期すると発表しました。
DOCX出願への円滑な移行のため関係者との協議が続けられていますが、現在用意されているDOCX出願の際にバックアップ用のPDF版を提出できるオプション(無料)についても、通達があるまで延期することになりました。
出典: USPTO